Detekční mechanismy na chemirezistorech s citlivou vrstvou na bázi nanostrukturovaných oxidů


Projekt se zabývá přípravou nanostrukturovaných oxidických materiálů (SnO2, WO3, ZnO a In2O3) pro citlivé vrstvy chemirezistorů a studiem povrchových reakcí probíhajících při detekci vybraných tříd plynných analytů (oxidující plyny - O2, NO2; redukující plyny - H2, CH4; páry/plyny tvořící vazbu vodíkovým můstkem - H2O, NH3; nenasycené uhlovodíky; alkoholy a ketony) na těchto vrstvách. V rámci projektu bude pro studium povrchových chemických reakcí použita nová technika (NAP XPS), umožňující měřit fotoelektronová spektra při expozici senzorové vrstvy plynným analytem. To umožnuje nahlédnout do mechanismu povrchových reakcí během detekce. Budou hledány experimentální i teoretické souvislosti mezi nanoměřítkem (charakter nanostrukturování senzorové vrstvy, chemismus reakcí na jejím povrchu, odpovídající modulace elektrofyzikálních parametrů vrstvy) a makroměřítkem, tedy vlastnostmi integrální součástky - chemirezistoru (citlivost, selektivita, stabilita).