Stabilní tenké vrstvy pro optické a monokrystalické materiály/EPSILON


Cílem projektu bude zdokonalení technologie přípravy tenkých vrstev s vyšší spektrální stabilitou vůči vlivům prostředí a vyšší odolností vůči poškození intenzivním laserovým zářením. Vrstvy budou připravovány na substráty z optických skel i monokrystalických materiálů pěstovaných firmou CRYTUR, spol. s r.o. pro aplikace v pulsních laserech s vysokými opakovacími frekvencemi a vysokým středním výkonem, v scintilačních detektorech a detekčních jednotkách částic a záření. Budou rozvíjeny technologie pěstování a opracování krystalů s důrazem na leštění povrchu. Rozvoj těchto technologií umožní inovovat stávající výrobky firmy, uspokojit vzrůstající poptávku po odolných optických komponentech, hledat a nabízet nové aplikace a tím zvýšit konkurenceschopnost firmy na světových trzích.